Rusia telah melancarkan pelan tindakan untuk membangunkan mesin litografi EUV sendiri dengan menggunakan laser 11.2nm, yang bertujuan untuk menawarkan alternatif yang lebih murah dan kurang kompleks kepada sistem ASML yang menggunakan 13.5nm.
Inisiatif ini, yang diketuai oleh Nikolay Chkhalo, berhasrat untuk membina mesin EUV yang memberikan prestasi yang kompetitif sambil mengurangkan kos pembuatan dan operasi, walaupun ia memerlukan pembangunan ekosistem litografi baru kerana panjang gelombang 11.2nm tidak serasi dengan infrastruktur EUV sedia ada.
Pembangunan akan berlaku dalam tiga peringkat, bermula dengan penyelidikan asas dan berakhir dengan sistem siap kilang untuk pengeluaran cip domestik.
perkara penting :
⏤ Rusia sedang membangunkan mesin litografi EUV sendiri, yang bertujuan untuk mewujudkan peralatan yang kurang mahal dan kompleks daripada sistem ASML.
⏤ Mesin ini akan menggunakan laser yang beroperasi pada panjang gelombang 11.2 nanometer dan bukannya standard 13.5 nm yang digunakan oleh ASML.
⏤ Peralihan ke 11.2 nm memerlukan Rusia untuk membangunkan ekosistem litografi sendiri, kerana ia tidak sesuai dengan infrastruktur EUV yang sedia ada.
⏤ Inisiatif Semikonduktor Rusia diketuai oleh Nikolay Chkhalo dari Fizik Institut Mikrostruktur Akademi Sains Rusia.
⏤ Rancangan pembangunan akan diteruskan dalam tiga peringkat: penyelidikan asas, prototaip, dan sistem siap kilang.
⏤ Pakar berpendapat bahawa membangunkan ekosistem litografi EUV yang lengkap boleh mengambil masa satu dekad atau lebih.